檢索結果:共5筆資料 檢索策略: "陳炤彰".ccommittee (精準) and cadvisor.raw="田維欣"
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在現今半導體晶片製程中,為達到更小的元件關鍵尺寸(Critical Dimension, CD),化學機械平坦化(Chemical-Mechanical Planarization, CMP)逐漸成…
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溫度感測循跡微粒應用於溫度場與速度場可視化時,較高的螢光強度能增加訊號雜訊比以提升量測準確性,而量子點作為新興的溫度感測螢光材料,相較於傳統有機的溫度感測材料具有較高的螢光強度,因此本研究探討溫度感…
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在空氣中的懸浮微粒(Particulate Matter, PM)已被證實對人體健康有負面影響,因此移除懸浮微粒的技術也成為目前人們研究的目標。靜電集塵器(electrostatic precipi…
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在現今半導體晶片製程中,為了增加效能採用多層的電路設計,使得各層電路之平坦化製程相對重要,因此在半導體製程中化學機械平坦化(Chemical-Mechanical Planarization, CM…
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化學機械平坦化 (Chemical-Mechanical Planarization/Polishing, CMP)為半導體製造製程之一,隨著線寬持續往奈米等級發展,每層電路的平坦度變的格外重要,C…